2019年1月，國家知識產權局向社會公開發(fā)布了2018年度主要工作統(tǒng)計數據及相關情況，其中集成電路設計領域的知識產權工作成果尤為引人關注。數據顯示，2018年我國集成電路設計行業(yè)在專利申請、授權及保護方面取得了顯著進展。

在專利申請方面，2018年集成電路設計領域的專利申請量達到5.3萬件，同比增長12.5%，展現出行業(yè)技術創(chuàng)新活力持續(xù)增強。特別是發(fā)明專利占比超過70%，體現了設計環(huán)節(jié)技術含量的不斷提升。企業(yè)作為創(chuàng)新主體地位進一步鞏固，華為、紫光展銳等龍頭企業(yè)年度專利申請均超過千件。

專利授權方面，2018年集成電路設計領域專利授權量達3.1萬件，授權率保持穩(wěn)定。其中，涉及芯片架構、EDA工具、IP核等關鍵技術的專利授權量增長明顯，反映出我國在集成電路設計核心技術領域的突破。

在知識產權保護方面，國家知識產權局加強了對集成電路布圖設計的登記保護，全年受理布圖設計登記申請同比增長15.2%。同時，通過專項執(zhí)法行動，有效打擊了集成電路設計領域的侵權假冒行為，為企業(yè)創(chuàng)新發(fā)展營造了良好環(huán)境。

值得一提的是，2018年國家知識產權局還推動了集成電路產業(yè)知識產權運營平臺建設，促進設計企業(yè)、高校和科研院所之間的技術轉移與協(xié)同創(chuàng)新。通過組織專業(yè)培訓、開展國際交流等方式，提升了行業(yè)知識產權綜合運用能力。

這些數據和工作情況充分表明，在國家創(chuàng)新驅動發(fā)展戰(zhàn)略指引下，我國集成電路設計產業(yè)正在實現從跟跑到并跑、局部領跑的轉變，知識產權制度的支撐保障作用日益凸顯。未來，隨著《國家集成電路產業(yè)發(fā)展推進綱要》的深入實施，集成電路設計領域的知識產權創(chuàng)造、運用和保護工作將繼續(xù)深化，為產業(yè)高質量發(fā)展提供更強動力。